Ürüne genel bakış
Basitçe söylemek gerekirse, bu maskesiz litografi makinesi, karmaşık desenleri malzemelere "maske" olmadan kazıyabilen bir makinedir. Geleneksel şablon litografisinden-daha esnek ve uygun maliyetlidir ve hızlı desen ayarlamalarına izin vererek araştırma, küçük-toplu üretim ve öğretim için uygun hale getirir.
Dört ana modelde gelir:
1. Araştırma versiyonu maskesiz litografi makinesi, laboratuvar araştırmaları için uygundur, 6 inçlik malzemeleri kullanır ve 0,4 mikrometreye kadar ince desenleri aşındırabilir ve yüksek hassasiyet sunar;
2. Yüksek-hızlı versiyonu maskesiz litografi makinesi, küçük-toplu üretime yöneliktir ve 8 inçlik malzemeleri dakikada 2500 milimetre kareye kadar olağanüstü yüksek hızlarda işler;
3. Eğitim sürümü maskesiz litografi makinesi, yalnızca 2 inç boyutunda, sınıfta öğretim için ideal ve kullanımı kolay küçük bir masaüstü modelidir;
4. Belirli büyük ölçekli işleme ihtiyaçlarını karşılayan, 2-metrelik malzemeleri işleyebilen ultra-geniş formatlı sürüm.
İster küçük çip bileşenleri, ister biyolojik deneyler için mikroakışkan çipler, ister eğitici gösteriler yapıyor olun, ihtiyaçlarınızı karşılayacak, maske ihtiyacını ortadan kaldırarak zamandan ve paradan tasarruf etmenizi sağlayacak bir model vardır.
Belirli bir modelin nasıl kullanılacağını veya belirli bir işleme senaryosu türü için hangi modelin seçileceğini öğrenmek istiyorsanız lütfen şirketimizle iletişime geçin. Ürün broşürünü kullanarak sizlere detaylı olarak anlatacağız.
Avantajları
Esnek tasarım, maskeye gerek yok
400 nm'ye kadar kritik boyut doğruluğu
1200 mm2/dak'ya kadar hız
4 m2'ye kadar maruz kalma alanı
4096 seviyeye kadar gri tonlamalı litografi
Parametreler
|
Modeli |
MLM100 |
MLM200 |
MLM300 |
|
Kritik boyut |
0.8 μm |
0.4 μm |
|
|
Minimum satır ve boşluklar |
1.0 μm |
0.8 μm |
|
|
Pozlama hızı |
Mercek①:3 mm2/dak Lens②:20 mm2/dak Mercek③:100 mm2/dak |
Mercek①:1 mm2/dak Lens②:3 mm2/dak Objektif③:20 mm2/dak Lens④:100 mm2/dak |
Lens①:10 mm2/dak Lens②:60 mm2/dak Objektif③:150 mm2/dak |
|
Kaplama doğruluğu (5 mm × 5 mm) |
400 deniz mili |
350 deniz mili |
|
|
Kaplama doğruluğu (50 mm × 50 mm) |
1000 nm |
700 deniz mili |
|
|
Dalgaboyu |
LED:405 nm / 380 nm |
LED:405 nm / 390 nm |
|
|
Otomatik lens değiştirme |
Destekleniyor |
||
|
Gri tonlamalı |
İsteğe bağlı |
Destekleniyor |
İsteğe bağlı-olmayan |
|
Yüzey boyutu |
3 mm × 3 mm(min) & 150 mm × 150 mm(maks) |
||
|
Yüzey kalınlığı |
0-10mm |
||
|
Veri formatı |
GDS & DWG & DXF |
||
|
Boyutlar (U×G×Y) |
750 mm × 800 mm × 700 mm |
1150 mm × 950 mm × 2000 mm |
|
|
Ağırlık |
320 kg |
590 kilo |
|
|
Kurulum gereksinimleri |
Toplam alan:1,5 m × 1,5 m Güç:1,3 Kw; Sıcaklık:20–30 derece; Nem:RH 40-60 % Güç kaynağı:220 V ±%5, 50 Hz ±1 Hz, 10 A |
Toplam alan:2,2 m × 1,7 m Güç:1,4 Kw; Sıcaklık:20–30 derece; Nem:RH 40-60 % Güç kaynağı:220 V ±%5, 50 Hz ±1 Hz, 10 A |
|
|
Modeli |
MLM400 |
MLM500 |
|
Kritik boyut |
1.0 μm |
0.5 μm |
|
Minimum satır ve boşluklar |
2.0 μm |
0.5 μm |
|
Pozlama hızı |
Mercek①:1000 mm2/dak Lens②:2500 mm2/dak |
Objektif①:75 mm2/dak Lens②:300 mm2/dak Mercek③:1200 mm2/dak |
|
Kaplama doğruluğu (5 mm × 5 mm) |
500 deniz mili |
250 deniz mili |
|
Kaplama doğruluğu (50 mm × 50 mm) |
1000 nm |
500 deniz mili |
|
Dalgaboyu |
LD:405 nm / 375 nm |
|
|
Otomatik lens değiştirme |
Destekleniyor |
|
|
Gri tonlamalı |
İsteğe bağlı |
|
|
Yüzey boyutu |
3 mm × 3 mm (min) & 200 mm × 200 mm(maks) |
|
|
Yüzey kalınlığı |
0-10mm |
|
|
Veri formatı |
GDS & DWG & DXF |
|
|
Boyutlar (U×G×Y) |
1700 mm × 1300 mm × 1950 mm |
|
|
Ağırlık |
1400 kg |
|
|
Kurulum gereksinimleri |
Toplam alan:2,7 m × 2,3 m Güç:2,4 Kw; Sıcaklık:20–26 derece; Nem:RH 40-60 % Güç kaynağı:220 V ±%5, 50 Hz ±1 Hz, 16 A |
|
SSS
Bu makinenin geleneksel litografi makinelerine göre en büyük avantajı nedir?
"Maskelere" (geleneksel litografide kullanılan şablonlara) olan ihtiyacı ortadan kaldırır. Desen değişiklikleri doğrudan yazılımda yapılarak şablon hazırlama maliyetinden ve süresinden tasarruf edilir. Bu, küçük-toplu deneme üretimini ve yeni tasarımlar üzerinde araştırma yapmayı çok daha kolay hale getirir.
Ne kadar iyi aşındırabilir? Farklı modellerin farklı hassasiyetleri var mı?
Hassasiyet modele bağlıdır: Araştırma sürümü 0,4 mikrometreye kadar, yüksek-hızlı sürüm 0,5 mikrometreye ve eğitimsel sürüm 1,5 mikrometreye kadar aşındırma yapabilir; bu, çoğu günlük araştırma ve üretim için yeterlidir.
Hangi boyuttaki malzemeleri işleyebilir?
Daha küçük materyaller arasında eğitimsel sürüm (2 inç, yaklaşık 5 cm), araştırma sürümü (6 inç) ve yüksek-hızlı sürüm (8 inç) bulunur. Ultra-daha büyük malzemeler için, 2 metreye kadar gravür yapabilen, büyük sensörlere ve esnek ekranlara uygun modeller mevcuttur.
Ne kadar hızlı? Küçük-seri üretime uygun mu?
Yüksek-hızlı versiyonu dakikada 2500 milimetre kareye kadar gravür yapabilir, bu da küçük-toplu üretim için yeterlidir. Araştırma versiyonu kesinliğe öncelik veriyor ancak hızı aynı zamanda uzun bekleme süreleri olmadan deneysel ihtiyaçları da karşılıyor.
Standart malzemelerin yanı sıra özel malzemeleri de kazıyabilir mi?
Elmasları, optik fiberleri ve hatta kavisli küçük motor kanatlarını kazıyabilir. Ayrıca suya ve oksijene duyarlı malzemeleri (Mikro-LED'ler ve manyetik oksitler gibi) işlemek için bir torpido gözüyle donatılabilir.
Okul öğretiminde kullanılabilir mi? Uygun modeller var mı?
Eğitimsel bir sürümü mevcuttur. Masaüstü-boyutundadır, kullanımı kolaydır ve öğrencilerin fotolitografi ilkelerini uygulaması için mükemmeldir. 1,5 mikron hassasiyeti deneylerin öğretilmesi için yeterlidir.
Işık kaynağı sabit mi? Değiştirilebilir mi?
Varsayılan 405nm ultraviyole ışıktır. Özel ihtiyaçlar için, ünitenin tamamı değiştirilmeden diğer dalga boyları (380nm ve 375nm gibi) seçilebilir.
Popüler Etiketler: maskesiz litografi makinesi, Çin maskesiz litografi makinesi üreticileri, tedarikçiler
