Ürüne genel bakış
Nano 3D Litografi Sistemi, mikro- ve nano-ölçekli katmanlı üretim için tasarlanmış gelişmiş projeksiyon-tabanlı mikro-stereolitografi (PμSL) platformlarıdır.
Taş baskı-dereceli optik sistemlerden ve maskesiz doğrudan-yazma teknolojisinden yararlanan Ploceus serisi, sektör lideri-çözünürlüğe ulaşır1 μmkarmaşık yüksek-en-boy oranlı mikroyapıların, çok-malzemeli cihazların ve seramik bileşenlerin olağanüstü boyutsal doğrulukla üretilmesine olanak tanır.
Seri, çeşitli araştırma ve endüstriyel gereksinimleri karşılamak için birden fazla hassasiyet seviyesi içerir:
LSS-20– Standart hassasiyet (20 μm)
LSS-10 /– Yüksek hassasiyet (10 μm)
LSS-05– Gelişmiş mikro hassasiyet (5 μm)
LSS-02– Ultra hassas (2 μm)
LSS-01-DL/LSS-01-TL– Çoklu-lens hizalama sistemleri (1 μm'ye kadar)
Modüler yapılandırma seçenekleri, çoklu-çözünürlük anahtarlama ve görsel hizalama yeteneğiyle Ploceus serisi, hem hızlı prototiplemeyi hem de yüksek-hassas mikrofabrikasyonu destekler.
Avantajları
① Ultra-Yüksek Litografi Doğruluğu
Çözünürlük20 μm'den 1 μm'ye kadar
±3 μm kadar düşük boyut toleransı
Yüksek en boy oranlı yapı imalatı
② Çoklu-Çözünürlük Değiştirme
1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm arasında hızlı geçiş
Farklı hassasiyet gereksinimleri için tek platform
③ Çoklu-Malzeme Uyumluluğu
Reçine
Biyouyumlu reçine
Hidrojel (örn. GelMA)
Alümina seramik bulamacı
Yüksek-sıcaklık mühendisliği reçinesi
④ Görsel Hizalama ve WYSIWYG İşleme
Gerçek-zamanlı optik izleme
Otomatik tesviye ve odaklama
Çok-malzemeli heterojen hizalama
2,5 μm'ye kadar katman hizalama doğruluğu
⑤ Yüksek-Hızlı Yazdırma
Geleneksel mikrofabrikasyon araçlarından 5 ila 50 kat daha hızlı
Hem prototip oluşturma hem de toplu araştırma üretimi için uygundur
⑥ Modüler ve Esnek Kazan Sistemi
Malzeme geliştirme için mini tekne (15 ml)
Hacimli üretim için büyük kazan
Yüksek-sıcaklıkta yazdırma modülü
Otomatik-kabarcık giderme sistemi
Uygulamalar
Biyomedikal ve Yaşam Bilimleri
· Mikroakışkan çipler
· Çip platformlarında-organoid-üzerinde-
· Mikroiğne dizileri (katı ve içi boş)
· Doku mühendisliği iskeleleri
· İlaç dağıtım sistemleri
· PDMS ana kalıpları
Gelişmiş Malzemeler ve Meta Malzemeler
Seramik kafes yapıları
Gradyan metamalzemeleri
Üçlü periyodik minimum yüzey (TPMS)
Mekanik metamalzemeler
Gözenekli seramik iskeleler
Mikro-Mekanik ve Fonksiyonel Cihazlar
· Mikro dişliler
· Mikro konektörler
· Optik meta yüzeyler
· Mikro-yaylar
· Fonksiyonel mikro yapılar
Parametreler
|
Modeli |
Litografi Doğruluğu |
Minimum Katman Kalınlığı |
Yazdırma Toleransı |
Maksimum Baskı Boyutu |
Mercek Sistemi |
|
LSS-20 |
20 μm |
5 μm |
±50 μm |
38×21×50mm |
Tek lens |
|
LSS-10 |
10 μm |
5 μm |
±20–25 μm |
50×50×50mm |
Tek lens |
|
LSS-05 |
5 μm |
3 μm |
±10 μm |
50×50×50mm |
Tek lens |
|
LSS-02 |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
Çift lens |
|
LSS-01-DL |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
Çift lens (hizalama) |
|
LSS-01-TL |
1 μm |
3 μm |
±3 μm |
50×50×50mm |
Üçlü mercek (hizalama) |
SSS
S: 1. Bu sistem hangi teknolojiyi kullanıyor?
C: Sistem, projeksiyon mikro-stereolitografi (PμSL) ve maskesiz doğrudan-yazma litografi teknolojisine dayalı olup, yüksek-hassas mikro/nano-ölçekli 3D üretime olanak tanır.
S: 2. Mevcut en yüksek çözünürlük nedir?
C: Modele bağlı olarak litografi doğruluğu şu aralıklarda değişir:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
1 μm'ye kadar (PL-3D-PT)
S: 3. Hangi materyaller destekleniyor?
C: Sistem aşağıdakiler de dahil olmak üzere çok çeşitli malzemeleri destekler:
Fonksiyonel reçineler
Biyouyumlu reçineler
Yüksek-sıcaklık mühendisliği reçineleri
Hidrojel (örn. GelMA)
Alümina seramik bulamacı
Talep üzerine özel malzeme uyumluluğu mevcuttur.
S: 4. Seramik yapıları basabilir mi?
C: Evet. Seçilen modeller seramik bulamaç baskıyı destekleyerek gözenekli seramik iskelelerin, kafes yapıların ve meta malzemelerin imalatına olanak tanır.
S: 5. Sistem çoklu-malzemeli yazdırmayı destekliyor mu?
C: Evet. Gelişmiş modeller (PL-3D-PD / PL-3D-PT), 2,5 μm'ye kadar kaplama hizalama doğruluğu ile çok malzemeli heterojen hizalama yazdırmayı destekler.
S: 6. Hangi dosya formatları destekleniyor?
C: Sistem, 3D model girişi için STL formatını destekler.
S: 7. Maksimum baskı boyutu nedir?
C: Modele bağlı olarak desteklenen baskı boyutu şu değerlere kadar ulaşabilir:
50 mm × 50 mm × 50 mm
Özel KDV yapılandırmaları mevcuttur.
S: 8. Bu sistem hangi endüstriler için uygundur?
C: Tipik uygulamalar şunları içerir:
Mikroakışkan çip üretimi
Mikroiğne dizileri
Doku mühendisliği iskeleleri
Metamalzemeler
Metayüzeyler
Mikro-mekanik cihazlar
Biyomedikal araştırmalarda, ileri malzemelerde ve mikrofabrikasyon alanlarında yaygın olarak kullanılmaktadır.
S: 9. Kurulum gereksinimleri nelerdir?
A: Sıcaklık: 20–40 derece
Nem: Bağıl Nem < %60
Standart laboratuvar ortamı
Temel çalıştırma için temiz odaya gerek yoktur (uygulama ihtiyaçlarına bağlı olarak).
S: 10. Geleneksel SLA veya DLP 3D yazıcılarla karşılaştırıldığında nasıldır?
C: Ploceus sistemi şunları sunar:
Litografi-derecesinde optik doğruluk
Mikron-seviyesinde çözünürlük (1–5 μm)
Daha yüksek boyutsal kararlılık
Çoklu-malzeme hizalama yeteneği
Genel prototipleme yerine mikro/nano imalat için tasarlanmıştır.
Popüler Etiketler: nano 3d litografi sistemi, Çin nano 3d litografi sistemi üreticileri, tedarikçileri
